Base de maquillaje Even Better Makeup Foundation SPF15 CN 52 Neutral -

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Base de maquillaje Even Better Makeup Foundation SPF15 CN 52 Neutral - Clinique

Base de maquillaje Even Better Makeup Foundation SPF15 CN 52 Neutral - Clinique 224231

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Octinoxato 5,9% p/p/p, dióxido de titanio 3,5% p/p/p, óxido de zinc 2,8% p/p/p Ingredientes: Agua\\Aqua\\Eau, metil trimeticona, fenil trimeticona, dimeticona, trietilhexanoína, butilenglicol, trimetilsiloxisilicato, extracto de levadura\\Faex\\Extrait De Levure, PEG-10 dimeticona, lauril PEG-9 polidimetilsiloxietil dimeticona, alúmina, glicerina, benzoato de alquilo C12-15, miristoil sarcosinato de sodio, polímero cruzado de dimeticona/PEG-10/15, fenoxietanol, cloruro de sodio, acetato de tocoferilo, acetil glucosamina, caprilil Meticona, Meticona, Polirricinoleato de poliglicerilo-6, Hectorita de disteardimonio, Manteca de semilla de Astrocaryum murumuru, Polímero cruzado de dimeticona-3, Lecitina, Fosfato de ascorbilo de magnesio, Ascorbato de tetrahexildecilo, Triisoestearato de titanio isopropílico, EDTA disódico, Laureth-7, Extracto de cáscara de Citrus Grandis (pomelo), Dipropilenglicol, Caprililglicol, Biguanida de poliaminopropilo, Extracto de corteza de Betula Alba (abedul), Extracto de lisado de Saccharomyces, [+/- Mica, Dióxido de titanio (Ci 77891), Óxidos de hierro (Ci 77491), Óxidos de hierro (Ci 77492), Óxidos de hierro (Ci 77499), Oxicloruro de bismuto (Ci 77163)] Tenga en cuenta que las listas de ingredientes pueden cambiar o variar de vez en cuando. Consulte la lista de ingredientes en el paquete del producto que recibe para obtener la lista de ingredientes más actualizada.

Börja i mitten av ansiktet och applicera utåt mot sidorna. Bygg upp täckning después de lo anterior. Para eliminar el maquillaje con los productos de maquillaje favoritos de Cliniques
Du lejos, hay otros resultados que incluyen una base que combina la base Even Better SPF 15 con el corrector de manchas oscuras Even Better Clinical y el humectante corrector del tono de piel Even Better SPF 20.